
Macchina per il rivestimento in vetro Cicel orizzontale
È ampiamente utilizzato nella ricerca scientifica, semiconduttori, strumenti, stampi, parti e componenti, dispositivi medici, ottica, nuova energia e altri settori. Può depositare rivestimenti di nitruro di AlTiN, TiAlAlN, AlTiXN, AlCrN, AlCrXN, TiSiN, CrN, TiN, Ta-c, simili alla grafite, Cr plus ac, Cr plus ac:H, W plus ac:H e altri substrati di carbonio, Cr plus ac:H, CrN plus ac:H rivestimenti PECVD.
È ampiamente utilizzato nella ricerca scientifica, semiconduttori, strumenti, stampi, parti e componenti, dispositivi medici, ottica, nuova energia e altri settori. Può depositare rivestimenti di nitruro di AlTiN, TiAlAlN, AlTiXN, AlCrN, AlCrXN, TiSiN, CrN, TiN, Ta-c, simili alla grafite, Cr plus ac, Cr plus ac:H, W plus ac:H e altri substrati di carbonio, Cr plus Ac:H, CrN più ac:H rivestimenti PECVD.
Con il modulo di nitrurazione del titanio pvd, è possibile eseguire un processo di nitrurazione al plasma prima di un processo di rivestimento PVD e/oPACVD in un sistema e un lotto. In tal modo è possibile produrre uno strato indurito che offre un eccellente supporto per il successivo rivestimento PVD/PACVD.
Benefici:
● Ottimizzazione dello strumento hardware in metallo pvd e delle proprietà dei componenti
● Sostituzione di materiali di base costosi
● Durata notevolmente più lunga
● Tutti i rivestimenti PVD possono essere applicati
Parametro

Applicazione

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