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Il processo a film sottile è un processo importante nel processo a semiconduttore. Con il rapido sviluppo dell'industria dei semiconduttori, i requisiti per il processo di rivestimento stanno diventando sempre più elevati. Secondo il metodo di preparazione del film sottile, può essere suddiviso in deposizione fisica da vapore (PhysicalVapor Deposition, PVD) e deposizione chimica da vapore (Chemical Vapor Deposition, CVD). Il rivestimento sputtering Magnetron è una sorta di deposizione meteorologica fisica, ampiamente utilizzata nell'elettronica, nell'edilizia, nell'industria automobilistica e in altri settori, in particolare per il rivestimento di grandi aree. Il rivestimento per sputtering Magnetron è diventato uno dei metodi di preparazione del film sottile più utilizzati a causa della sua alta velocità, bassa temperatura e capacità di spruzzare quasi qualsiasi materiale. L'uniformità del film, la qualità di formazione del film, la velocità di rivestimento e la stabilità del processo e la ripetibilità del rivestimento con sputtering magnetron sono i problemi di cui le persone sono molto preoccupate e la stabilità dell'apparecchiatura determina direttamente la stabilità del processo.

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