Macchina per il rivestimento di plastica color argento oro

Il rivestimento sputtering è un tipo di metodo di rivestimento in cui gli ioni positivi generati dalla scarica a bagliore bombardano la superficie del materiale bersaglio del catodo ad alta velocità sotto l'azione del campo elettrico in un ambiente sotto vuoto, spruzzando atomi o molecole e depositando un film sottile sulla superficie di il substrato. Il principio dello sputtering consiste nel lasciare che il gas inerte (solitamente gas Ar) si scarichi per generare ioni ed elettroni Ar carichi; quindi gli elettroni volano al substrato, scontrandosi continuamente con gli atomi di argon nel processo, generando più ioni ed elettroni Ar, gli ioni carichi vengono accelerati dal campo elettrico e colpiscono la superficie del materiale bersaglio, in modo che gli atomi del materiale bersaglio siano bombardati e volano fuori, e gli elettroni secondari vengono generati allo stesso tempo, quindi colpiscono gli atomi di gas per formare particelle più cariche. Gli atomi bersaglio trasportano energia sufficiente per raggiungere la superficie del substrato per la deposizione.

I vantaggi del rivestimento sputtering sono: qualsiasi sostanza può essere spruzzata, in particolare composti di elementi a bassa pressione del gas e punto di fusione elevato; buona adesione tra il film e il supporto, alta densità di rivestimento, meno microfori; perché controllando la corrente di scarica e la corrente target, lo spessore del film può essere controllato, quindi il processo di rivestimento sputtering è facile da controllare e ha una buona ripetibilità.

Svantaggi del rivestimento sputtering: l'attrezzatura è più complessa, sono necessarie apparecchiature ad alta tensione e il prezzo è costoso.

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