Macchina di rivestimento a rotazione

Anche lo sputtering a frequenza intermedia è una specie di sputtering del magnetron.

Esistono molti tipi di sputtering di magnetron, che possono essere suddivisi in sputtering di magnetron CC, sputtering di magnetron a radiofrequenza e sputtering di magnetron a frequenza intermedia in base alla fonte di alimentazione utilizzata. L'alimentatore utilizzato nello sputtering del magnetron CC è un alimentatore CC ad alta tensione, in genere 300-1000 V, caratterizzato da velocità di sputtering veloce, basso costo e manutenzione economica nel periodo successivo. Tuttavia, solo i bersagli metallici possono essere spruzzati. Se il bersaglio è un isolante, man mano che lo sputtering avanza, il bersaglio accumulerà una grande quantità di carica, con conseguente impossibilità di continuare lo sputtering. Pertanto, lo sputtering del magnetron CC viene solitamente utilizzato per bersagli metallici. Grazie al suo basso costo e alla sua struttura semplice, è ampiamente utilizzato nell'industria. La frequenza dell'alimentatore RF utilizzato nello sputtering del magnetron RF è solitamente di 13,56 MHz, il che può risolvere il problema che lo sputtering del magnetron CC non può spruzzare bersagli isolanti. Le caratteristiche dello sputtering RF magnetron sono: è possibile spruzzare sia bersagli isolanti che bersagli metallici e l'adesione tra la pellicola e il substrato è forte. Tuttavia, a causa della struttura e del dispositivo complessi, del prezzo elevato dell'alimentatore RF, degli elevati costi di manutenzione, delle radiazioni al corpo umano e della necessità di una rete di abbinamento esterna, non è adatto alla produzione industriale. Lo sputtering magnetron a frequenza intermedia viene spesso utilizzato per lo sputtering reattivo per preparare film composti di metallo. Oltre all'argon, nella cavità viene aggiunta una piccola quantità di gas reattivi come azoto, ossigeno, ecc. per depositare le molecole di questi gas reattivi con gli atomi del materiale bersaglio. sul substrato per formare un film composto di metallo. Poiché lo sputtering a magnetron CC è ampiamente utilizzato nell'industria, il tavolo per sputtering magnetron include un sistema di vuoto, un sistema di rivestimento per sputtering, un gas e un sistema di controllo.

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